現在市販されている大気圧プラズマ装置のほとんど全ては，ヘリウム，アルゴン，窒素，空気など，使用できるプラズマガスに制限があります。弊社では，あらゆるガスをプラズマ化できる，「マルチガス」を一つの重要なキーワードとして大気圧プラズマ源を開発しています。マルチガス化によって所望のガスで自由にプラズマを生成できるため，親水化や接着性の向上だけでなく，コーティングや殺菌処理などの可能性が大きく広がります。
　また，低温かつ放電損傷のない，「ダメージフリー」なプラズマ源を開発しています。ダメージフリープラズマ (弊社登録商標) では，従来の半導体やプラスチックだけでなく，金属，繊維，紙，生体等へも高密度プラズマ処理を適用する事ができます。
　2011年10月，零下90℃〜150℃まで1℃以内の精度で「温度制御可能」なプラズマ源を開発しました。温度制御プラズマは，熱に弱い素材へのプラズマ照射や，目的とする化学反応に最適な温度でのプラズマ処理を可能にします。
　さらに，プラズマ照射部を手で持って照射できる「ハンディ」なプラズマ源を開発しています。もちろん，ロボットを用いて精密に移動・照射する事も可能です。平板やシートだけでなく，複雑な形状の対象へのプラズマ照射が可能になります。
　そして，これらのプラズマを用いた「超高速」かつ「低温」のコーティング，親水化，クリーニング，殺菌，接着性・塗装性向上技術を開発・提案しています。